日光ケミカルズ（東京都中央区、中原秀之社長）の研究チームがこのほど、ニキビの原因菌であるCutibacterium acnesが形成するバイオフィルムの洗浄・剥離メカニズムを解明した。本研究結果をまとめた論文は、American Chemical Society（⽶国化学会）が発行する学術誌「Langmuir」に掲載され、同論⽂の学術的優位性に加え、「視覚的なインパクト」や「その号のハイライトにふさわしい⾰新性」が⾼く評価され、同誌の表紙（Supplementary Cover）に採⽤された。

　皮膚常在細菌によるバイオフィルムは、炎症性皮膚疾患や肌トラブルと密接に関連している。本研究では、バイオサーファクタントである「ラムノリピッド」と、一般的な合成界面活性剤による洗浄・剥離挙動を、多角的なアプローチで比較検証。研究の結果、それぞれの物質がバイオフィルムを除去するプロセスには明確な差異が存在することが明らかとなった。

　今回選出されたカバーアートは、⽔晶振動⼦マイクロバランス（QCM-D）センサー基板上に形成された、アクネ菌バイオフィルムの洗浄メカニズムの違いを対⽐的に描いている。ラムノリピッドがせん断流下でバイオフィルムをセンサー界⾯から剥離させる⼀⽅で、ドデシル硫酸ナトリウムはバイオフィルムの内部へと浸透し、構造を乱しながら除去していく様⼦を表しているという。

（冒頭の写真：同社リリースより）