富士フイルム（株）（東京都港区、助野健児社長）はこのほど、微量の紫外線が肌を乾燥させるメカニズムを解明したと発表した。

　培養皮膚モデルに紫外線Ａ波を照射し、約2万個に上る全遺伝子の発現量の変化を網羅的に解析。その結果、皮膚中のプロテオグリカン（保水成分）を分解する酵素であるストロメライシン-1の遺伝子が、照射しない場合と比べて、顕著に多く発現することを突き止めたという。

　また、ヒトの皮膚組織でも、微量の紫外線A波を照射することによって、ストロメライシン-1がより多く産生することを確認したと報告している。